青椒薄膜种植方法

青椒薄膜种植方法主要包括以下几个关键步骤：

选地施肥

选择土壤肥沃、富含有机质、疏松且通气性好、土层深厚的壤土。

地势要求平坦、排水方便，3年内未种植或茄科蔬菜和马铃薯地块。

场地准备

清除前茬秸秆和杂物，翻耕碎土耙垄，沟内施基肥，垄高15cm，南北向适宜。

培育壮苗

覆膜辣椒一般在12月下旬播种，次年4月中下旬定植，直至10月下旬摘苗。

播种前对种子进行处理，然后用温水浸泡8-12小时，置于28-30℃的温度下加速发芽。

育苗一般在温室或火炕上进行，播种后苗床温度白天保持在25-30℃，夜间保持在18-20℃，分苗前逐渐揭膜通风，进行低温硬化。

作畦盖膜

作畦要精细适当，畦高约二三十厘米，畦宽在七八十厘米，薄膜大约宽1米2左右。

覆膜前要把畦面土块细碎化并平整到位，覆膜时要将薄膜平铺于畦面上，铺平、盖紧、埋牢，薄膜四周要实压入土中。